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1200℃PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：KJ-PECVD-1200-50*300-F3
主要用途：該PECVD管式爐度范圍寬；濺射區(qū)域長；整管可調(diào)；精致小巧，性價比高，可實現(xiàn)快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。
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設(shè)備介紹
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。該PECVD管式爐溫度范圍寬；濺射區(qū)域長；整管可調(diào)；精致小巧，性價比高，可實現(xiàn)快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。產(chǎn)品優(yōu)勢
更好的沉積效率PECVD比普通CVD具有更高的化學(xué)氣相沉積速率、更好的均勻性、一致性和穩(wěn)定性
所需溫度更低PECVD對于化學(xué)氣相沉積需要比普通CVD更低的溫度
成品質(zhì)量好具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點
技術(shù)參數(shù)
| 產(chǎn)品名稱 | 1200℃PECVD系統(tǒng) | |
| 產(chǎn)品型號 | KJ-PECVD-1200-50*300-F3 | |
| 加熱系統(tǒng) | 顯示 | LED |
| 最高溫度 | 1200℃ | |
| 長期工作溫度 | ≤1100℃ | |
| 升溫速率 | 0~10℃/min | |
| 溫區(qū)長度 | 300mm（其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制） | |
| 加熱元件 | 硅鉬棒 | |
| 熱電偶 | N型 | |
| 溫度均勻性 | ±1℃ | |
| 爐管尺寸 | 直徑60 x 長度1200mm（其他尺寸可根據(jù)客戶需求定制） | |
| 材質(zhì)：氧化鋁 | ||
| 溫度控制 | 通過可控硅功率控制進行PID自動控制 | |
| 加熱過程 | 30步可編程 | |
| 最大工作壓力 | 0.02MPa | |
| 真空系統(tǒng) | 旋片泵 | 冷態(tài)極限真空10Pa |
| 真空計 | 數(shù)顯真空計 | |
| 真空法蘭 | 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭 | |
| 質(zhì)量流量計 | 流量范圍 | CO2（流量范圍：0-200 sccm CH4（流量范圍：0-200 sccm） N2 流量范圍（流量范圍：0-200 sccm） |
| 等離子射頻發(fā)生器 | 輸出功率：0 -300W可調(diào)，±1%穩(wěn)定性 射頻頻率：13.56 MHz ±0.005% 穩(wěn)定性 |
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河南鴻爐機械有限公司是一家專業(yè)從事電爐產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售的企業(yè)。我公司產(chǎn)品具有升溫快、節(jié)能、溫控精度高、保溫性能好、微電腦控制、可編程全自動升溫降溫、爐壁溫度接近室溫、使用壽命長等特點；產(chǎn)品型號達到上百種，并可根據(jù)客戶需求定制各式爐型，以滿足高校、科研院所和工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、金屬退火、氣氛還原和質(zhì)量檢測之用，廣泛應(yīng)用于陶瓷、化工、電子、冶金、新材料開發(fā)、機械、耐火材料、建材、特種材料等領(lǐng)域的實驗和生產(chǎn)，受到廣大新老用戶的一致好評。
主要產(chǎn)品有箱式馬弗爐、管式電阻爐、真空爐、氣氛爐、坩堝爐、CVD系統(tǒng)、牙科爐、升降爐、軌道爐、臺車爐、退火爐、升降爐等標準及非標實驗電爐和工業(yè)電爐，并提供各類電爐配件、加熱元件及耐火材料。
鴻爐鄭重承諾：每臺電爐出廠前均經(jīng)過嚴格的質(zhì)量檢測以及高溫測試，為客戶提供放心可靠的產(chǎn)品！?。?/font>
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